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发布时间:1970/01/01
pld

主要用途:

用激光打在靶材上,制备超导薄膜、半导体薄膜、超硬薄膜等,是一种非常适用的镀膜方式。

结构特点:

系统由球形结构的超高千亿游戏的网站沉积室、样品支持架、多工位激光转靶、千亿游戏的网站获得、千亿游戏的网站测量、气路、PLC及电控系统等组成。

技术指标:

1、沉积室:球形ø450mm,接换样活门和激光入射窗口、样品架及各种法兰接口。

2、千亿游戏的网站度:分子泵系统极限千亿游戏的网站:6.6×10-8Pa。

3、样品架组件:样品尺寸2英寸,样品加热温度:白金丝为加热体,在有氧气气氛下800°C可长期使用。控温精度:±1°C。样品可自转,转数0-30转/分;可交接、激光沉积和在线检测位置。

4、四工位激光转靶:可安装四块2英寸靶材。每块靶材可公转到溅射位置并精确定位、自转,公转、自转均由步进电机驱动,自转转速0-30转/分可调。

5、气路:质量流量计控制(氧气)


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